PVD鍍膜靶材

說明:
PVD是英文Physical Vapor Deposition，指在真空條件下，用物理性的電漿或電弧方式，使鍍膜材料沉積在被鍍工件上的薄膜製作技術。

功能:
應用於車刀具、模具、機器/儀器元件、汽車、航太元件、醫療零件及裝飾等。

範圍:
以濺鍍靶材、陰極電弧靶材為主。

特性:
採用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特質，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀耐用性能。

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